正型光阻组成物及光阻图型之形成方法

摘要

本发明为提供一种含有(A)树脂成份，与(B)经由曝光产生酸之酸产生剂成份之正型光阻组成物，其中，前述酸产生剂成份(B)为含有下述式(B1)所示之酸产生剂(B1)者，[式中，R51为直链、支链状或环状之烷基，或直链、支链状或环状之氟化烷基；R52为氢原子、羟基、卤素原子、直链、支链状或环状之烷基、直链或支链状之卤化烷基，或直链或支链状之烷氧基；R53为可具有取代基之芳基；n为1~3之整数。]。1

主权项

一种正型光阻组成物，其为含有(A)具有酸解离性溶解抑制基，且经由酸之作用而增大硷可溶性之树脂成份，与(B)经由曝光产生酸之酸产生剂成份之正型光阻组成物，其特征为，前述酸产生剂成份(B)为含有下述式(B1)所示之酸产生剂(B1)者，[化1][式中，R51为直链、支链状或环状之氟化烷基；R52为氢原子、羟基、卤素原子、直链、支链状或环状之烷基、直链或支链状之卤化烷基，或直链或支链状之烷氧基；R53为可具有取代基之芳基，该芳基去除取代基之基本环结构为苯基；n为1～3之整数]。