| 发明名称 |
放射性同位素铊-２０１之制程 |
| 摘要 |
一种放射性同位素铊－201之制程，系将铊－203经由电镀过程形成电镀靶材，作为铊－203固体靶材，且利用回旋加速器质子束照射铊－203固体靶材；并将铊－203固体靶材以强酸液体溶解成铅－201及铊－203溶液，之后加入氨NH3及水进行共沉分离成铊－201与铅－201液体，然后加入盐酸(HCl)利用树脂进行离子交换，将铅－201液体中之铁加以过滤分离进行第一阶段化学分离；之后将铅－201液体取出使其衰退成为铊－201液体；最后进行第二阶段化学分离，而于铊－201液体中加入含二氧化硫之盐酸HCl(SO2)溶液利用树脂进行进行二次离子交换，藉以达到快速分离出纯度较高之铊－201液。 |
| 申请公布号 |
TWI315214 |
申请公布日期 |
2009.10.01 |
| 申请号 |
TW095123605 |
申请日期 |
2006.06.29 |
| 申请人 |
行政院原子能委员会-核能研究所 |
发明人 |
林武智;杜定贤;蔡英敏;黄森荣;吕建兴;张茂雄;陈振宗 |
| 分类号 |
B01D59/30;B01D59/02;B01D59/00 |
主分类号 |
B01D59/30 |
| 代理机构 |
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代理人 |
欧奉璋 |
| 主权项 |
一种放射性同位素铊－201之制程，其至少包括下列步骤：电镀：将铊－203经由电镀过程形成电镀靶材，作为铊－203固体靶材；照射：将铊－203固体靶材利用回旋加速器进行质子束照射；第一阶段化学分离：系经溶解、共沉及一次离子交换等步骤，将铊－203固体靶材以强酸液体溶解成铅－201及铊－203溶液，之后加入氨(NH3)及水进行共沉分离成铊－201与铅－201液体，然后加入盐酸(HCl)利用树脂进行离子交换，将铅－201液体中之铁加以过滤分离；衰退：之后将铅－201液体取出进行衰退，使铅－201液体衰退成为铊－201液体；以及第二阶段化学分离：系于铊－201液体中加入含二氧化硫之盐酸HCl(SO2)利用树脂进行二次离子交换，藉以过滤出纯度较高之铊－201液体。 |
| 地址 |
桃园县龙潭乡文化路1000号 |
