发明名称 光敏复合材料,三维存储材料和记录介质,光功率限制材料和元件,光固化材料和立体平版印刷术系统,以及多光子荧光显微镜用荧光材料和多光子荧光显微镜
摘要 提供光敏复合材料以及利用所述光敏复合材料的材料、元件、装置等。在光敏复合材料中,多光子吸收化合物对于通过利用增强等离子体场的实际应用来说是高度敏化的。该光敏复合材料具有这样的结构,其中多光子吸收化合物通过连接基团连接到细金属颗粒的表面上。细金属颗粒产生与多光子激发波长共振的增强表面等离子体场。多光子吸收化合物具有能够进行多光子吸收的分子结构。光敏复合材料被包含于或者被用于例如三维存储材料和三维记录介质、光功率限制材料和光功率限制元件、光固化材料和立体平版印刷术系统以及多光子荧光显微镜用荧光材料和多光子荧光显微镜中。
申请公布号 CN101548231A 申请公布日期 2009.09.30
申请号 CN200880000777.0 申请日期 2008.06.12
申请人 株式会社理光 发明人 户村辰也;佐藤勉;三树刚;高田美树子;佐佐木正臣
分类号 G02F1/361(2006.01)I;G11B7/244(2006.01)I;G11B7/24(2006.01)I 主分类号 G02F1/361(2006.01)I
代理机构 北京纪凯知识产权代理有限公司 代理人 赵蓉民;路小龙
主权项 1. 光敏复合材料,其包括:细金属颗粒,其产生与多光子激发波长共振的增强表面等离子体场;多光子吸收化合物,其具有能进行多光子吸收的分子结构,其中所述多光子吸收化合物被连接到所述细金属颗粒的表面。
地址 日本东京