发明名称 Cyanidfreie Elektrolytzusammensetzung zur galvanischen Abscheidung einer Kupferschicht und Verfahren zur Abscheidung einer kupferhaltigen Schicht
摘要 Die vorliegende Erfindung betrifft eine cyanidfreie Elektrolytzusammensetzung zur galvanischen Abscheidung einer Kupferschicht auf Substratoberflächen sowie ein Verfahren zur Abscheidung solcher Schichten. Mit der Erfindung wird ein Elektrolyt zur galvanischen Abscheidung einer Kupferschicht auf einer Substratoberfläche vorgeschlagen, aufweisend zumindest Kupfer-(II)-Ionen, ein Hydantoin und/oder Hydantoinderivat, eine Di- und/oder Tricarbonsäure oder deren Salze, sowie ein Metallat eines Elementes der Gruppe bestehend aus Molybdän, Wolfram und Vanadium und/oder eine Cer-Verbindung.
申请公布号 DE102008033174(B3) 申请公布日期 2009.09.17
申请号 DE20081033174 申请日期 2008.07.15
申请人 ENTHONE INC. 发明人 SCHAEFER, STEFAN
分类号 C25D3/38 主分类号 C25D3/38
代理机构 代理人
主权项
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