摘要 |
Die vorliegende Erfindung betrifft eine cyanidfreie Elektrolytzusammensetzung zur galvanischen Abscheidung einer Kupferschicht auf Substratoberflächen sowie ein Verfahren zur Abscheidung solcher Schichten. Mit der Erfindung wird ein Elektrolyt zur galvanischen Abscheidung einer Kupferschicht auf einer Substratoberfläche vorgeschlagen, aufweisend zumindest Kupfer-(II)-Ionen, ein Hydantoin und/oder Hydantoinderivat, eine Di- und/oder Tricarbonsäure oder deren Salze, sowie ein Metallat eines Elementes der Gruppe bestehend aus Molybdän, Wolfram und Vanadium und/oder eine Cer-Verbindung.
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