发明名称 | 压力控制系统 | ||
摘要 | 本发明公开了一种压力控制系统,包括多个压力传感器和压力控制装置,所述压力控制装置包括计算机和压力控制器,计算机对多个压力传感器的检测结果进行校正,并将校正后的检测结果传给压力控制器;计算机还根据预先设定的压力设置值选择有效的压力传感器,并将选择的结果传给压力控制器;压力控制器根据计算机所选择的有效的压力传感器,及校正后的检测结果实现对反应室的压力控制。简单、实用,既能够利用多个压力传感器连续检测并控制反应室内压力,又能够校正不同压力传感器相互切换时的误差。适用于压力要求较严格的场合,尤其适用于半导体晶片蚀刻设备,也适用于其它场合。 | ||
申请公布号 | CN100541380C | 申请公布日期 | 2009.09.16 |
申请号 | CN200610113002.7 | 申请日期 | 2006.09.06 |
申请人 | 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 | 发明人 | 孙岩 |
分类号 | G05D16/20(2006.01)I | 主分类号 | G05D16/20(2006.01)I |
代理机构 | 北京凯特来知识产权代理有限公司 | 代理人 | 赵镇勇;王连军 |
主权项 | 1、一种压力控制系统,包括多个压力传感器,用于检测反应室的压力,还包括压力控制装置,用于根据多个压力传感器的检测结果实现对所述反应室的压力控制,其特征在于,所述的压力控制装置首先对多个压力传感器的检测结果进行校正,消除多个压力传感器的检测结果之间的误差;之后,从所述多个压力传感器中选择有效的压力传感器,并根据校正后的检测结果实现对所述反应室的压力控制。 | ||
地址 | 100016北京市朝阳区酒仙桥东路1号M5座2楼 |