发明名称 | 清洁基板的方法 | ||
摘要 | 本发明披露了一种清洁基板的方法,通过控制去离子水(DIW)和表面张力比水的表面张力低的液体的混合比例制造共沸点混合物,然后将该在室温下容易蒸发的该共沸点混合物分发到基板上,从而清洁该基板。该方法包括旋转该基板,将清洁液分发到该旋转基板的表面,通过混合去离子水和表面张力比水的表面张力低的液体制造共沸点混合物,将该共沸点混合物分发到该旋转基板的表面并通过向该基板供应惰性气体而完成干燥。 | ||
申请公布号 | CN101536158A | 申请公布日期 | 2009.09.16 |
申请号 | CN200780042248.2 | 申请日期 | 2007.11.09 |
申请人 | 无尽电子株式会社 | 发明人 | 金大熙 |
分类号 | H01L21/304(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/304(2006.01)I |
代理机构 | 北京康信知识产权代理有限责任公司 | 代理人 | 吴贵明 |
主权项 | 1. 一种清洁基板的方法,其中所述方法包含以下步骤:旋转该基板;将清洁液分发到该旋转基板的表面;通过混合去离子(DI)水和表面张力比水的表面张力低的液体制造共沸点混合物;将该共沸点混合物分发到该旋转基板的表面;及通过向该基板供应惰性气体(氮气、Ar、Ne等)完成干燥,其中该共沸点混合物的沸点比该去离子水和该表面张力比水的表面张力低的液体的沸点低。 | ||
地址 | 韩国首尔 |