一种制备非线性光学有机薄膜的方法

摘要

本发明设计光学薄膜制备领域，目的是克服现有技术中的不足，提供一种能够简单制备非线性光学有机薄膜的方法及其有机溶剂。采用重复旋涂技术将有机染料/有机基膜材料溶胶涂制在基片上。将重复旋涂技术应用于非线性光学有机薄膜的制备上，是一种现有方法的新应用，大大降低了制作成本，提高了产品的质量。所述有机溶剂采用沸点介于100℃～250℃之间的有机溶剂。特别是采用环己酮作为有机溶剂具有最佳的效果。

主权项

1.一种制备非线性光学有机薄膜的方法，其特征是采用重复旋涂技术将有机染料/有机基膜材料溶胶涂制在基片上，具体包括以下步骤：①将有机染料/有机基膜材料按一定比例溶解于有机溶剂中，制成有机染料/有机基膜材料溶胶液体：采用PMMA作为有机染料/有机基膜材料，采用环已酮作为有机溶剂，PMMA和环已酮按0.5wt％～10wt％的质量百分比制成有机染料/有机基膜材料溶胶液体；②将制备好的机染料/有机基膜材料溶胶液体均匀覆盖基片，启动涂膜机分别进行低速和高速旋转，使机染料/有机基膜材料溶胶在基片上形成10微米量级的薄膜；所述低速在300-400r/min范围，时间为4-6s；高速在1000-1800r/min范围，时间为5-10s。③等待有机溶剂自然挥发至涂膜定型并未干燥时进行下一次旋涂，等待的时间为2.5～3.5个小时；④根据所需制备有机薄膜厚度，重复步骤②～③至薄膜厚度符合要求。