发明名称 |
对向靶材式溅镀装置 |
摘要 |
本发明提供一种对向靶材式溅镀装置,不需使用大型靶材可在实质上实现大型靶材的功能,为可成膜于大面积的基板上,将长方体状框体71的6个侧面71a~71f中的1个71f作为开口的开口侧面;将具备有靶材和设置于其周围、形成垂直于靶材面方向的对向模式磁场,及平行于靶材面方向的磁控模式磁场的永久磁铁的磁场产生装置的一对靶材单元100a及100b,装设于与靶材单元相邻接的开口侧面的两侧对向的侧面;将以遮蔽板72c~72e(71c、72c于正前方未图示)遮蔽其它侧面71c~71e的箱型对向式溅镀部70,在开口侧面安装于真空容器10上;将开口侧面的开口部面对真空容器内,于各靶材单元100a、100b各配置有多个多片的靶材110a<sub>1</sub>、110a<sub>2</sub>;110b<sub>1</sub>、110b<sub>2</sub>。 |
申请公布号 |
CN100540728C |
申请公布日期 |
2009.09.16 |
申请号 |
CN200580016686.2 |
申请日期 |
2005.12.13 |
申请人 |
F·T·S·股份有限公司 |
发明人 |
门仓贞夫;安福久直 |
分类号 |
C23C14/34(2006.01)I;H01L21/285(2006.01)I |
主分类号 |
C23C14/34(2006.01)I |
代理机构 |
北京纪凯知识产权代理有限公司 |
代理人 |
程 伟 |
主权项 |
1.一种对向靶材式溅镀装置,具有对向靶材单元对和对向式溅镀部,所述对向靶材单元对包含有:靶材模块,于具有冷却装置的凸模垫板部前面装设有矩形的靶材;单元支撑体,于前面装设有靶材模块的模块装设部,该模块装设部的周围具有磁铁收纳部,用于收纳永久磁铁以便产生对向方向的磁场;及前述永久磁铁,收纳于前述磁铁收纳部;在所述对向式溅镀部中,将靶材隔离既定的对向空间相对向地配置,且能够成膜于配置在和对向式溅镀部的对向空间的侧面相对的侧方的基板上;其特征在于:前述单元支撑体的前述模块装设部,于平行于靶材面及基板面的横向方向上,被分割成能够各自密封地装设靶材模块的多个装设区块,同时,将既定长度的靶材模块装设于各对应的装设区块,通过并排设置于前述横向方向的相连的多个靶材模块构成长大的合成靶材,来覆盖前述横向方向的基板的成膜区域。 |
地址 |
日本东京都 |