| 发明名称 | 光学用聚乙烯醇基膜、偏光膜和起偏振片 | ||
| 摘要 | 本发明旨在提供光学用聚乙烯醇基膜，所述聚乙烯醇基膜具有优异的拉伸性能，并且可用于制备在整个可见光波长范围内、具体地在460nm附近显示出优异的偏光性能的偏光膜。即，本发明涉及包含聚乙烯醇基树脂的光学用聚乙烯醇基膜，其中所述聚乙烯醇基树脂仅由在侧链上含有1，2-二醇键的聚乙烯醇基树脂(A)组成，在侧链上的1，2-二醇键的含量等于0.01～6摩尔％。 | ||
| 申请公布号 | CN101528817A | 申请公布日期 | 2009.09.09 |
| 申请号 | CN200680055507.0 | 申请日期 | 2006.07.27 |
| 申请人 | 日本合成化学工业株式会社 | 发明人 | 北村秀一;胜间胜彦;涩谷光夫;清水俊宏 |
| 分类号 | C08J5/18(2006.01)I;C08L29/04(2006.01)I;G02B5/30(2006.01)I | 主分类号 | C08J5/18(2006.01)I |
| 代理机构 | 中原信达知识产权代理有限责任公司 | 代理人 | 陈海涛;樊卫民 |
| 主权项 | 1.一种含聚乙烯醇基树脂的光学用聚乙烯醇基膜，其中所述聚乙烯醇基树脂仅由在侧链上含有1，2-二醇键的聚乙烯醇基树脂(A)组成，并且在侧链上的1，2-二醇键的量为0.01～6摩尔％。 | ||
| 地址 | 日本大阪府 | ||