纯化含有醯胺之清洁溶液的方法及其用途

摘要

本发明有关制造及使用具有低微量金属杂质之醯胺　化合物的方法。本发明进一步有关包含具有低微量金属杂质之醯胺　化合物的组成物，诸如可用于清洁半导体基材及/或设备或自彼移除残留物的组成物。