发明名称 Halbleiterbauelement mit einem Kondensator im Metallisierungssystem und ein Verfahren zur Herstellung des Kondensators
摘要 Durch Herstellen von Metallkondensatoren in den Metallisierungsstrukturen von Halbleiterbauelementen können komplexe Fertigungssequenzen in der Bauteilebene vermieden werden. Der Prozess der Herstellung der Metallkondensatoren kann auf der Grundlage gut etablierter Strukturierungsschemata moderner Metallisierungssysteme durchgeführt werden, indem geeignet ausgewählte Stoppmaterialien verwendet werden, die ein hohes Maß an Kompatibilität mit der Herstellung von Kontaktlochöffnungen in einer Metallisierungsschicht bieten, wobei ein Kondensatordielektrikum mit einer gewünschten hohen Dielektrizitätskonstante im Kondensator bereitgestellt wird.
申请公布号 DE102008006962(A1) 申请公布日期 2009.08.27
申请号 DE200810006962 申请日期 2008.01.31
申请人 ADVANCED MICRO DEVICES INC.;AMD FAB 36 LLC & CO. KG 发明人 WERNER, THOMAS;FEUSTEL, FRANK;FROHBERG, KAI
分类号 H01L21/8242;H01L27/06;H01L27/08;H01L27/108 主分类号 H01L21/8242
代理机构 代理人
主权项
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