发明名称 制备异氰酸酯的方法
摘要 本发明涉及一种制备异氰酸酯的方法,该方法包括使合适的胺与光气反应,对得到的气体混合物进行冷凝,对得到的液相进行汽提,使残留的液体形式的溶剂回到反应阶段中。然后,在吸收处理中进一步纯化气态成分。
申请公布号 CN101514172A 申请公布日期 2009.08.26
申请号 CN200910006751.3 申请日期 2009.02.18
申请人 拜尔材料科学股份公司 发明人 W·劳伦斯;M·博姆;R·亚当森;F·斯特芬斯;A·希尔舍
分类号 C07C263/10(2006.01)I;C07C263/20(2006.01)I;C07C265/02(2006.01)I;C07C265/12(2006.01)I 主分类号 C07C263/10(2006.01)I
代理机构 上海专利商标事务所有限公司 代理人 沙永生
主权项 1.一种制备异氰酸酯的方法,该方法包括以下步骤:a)使至少一种胺与光气在溶剂存在下反应,形成含相应的异氰酸酯和任选的溶剂的液流和含有氯化氢、光气、溶剂、低沸点物质和惰性物质的气流;b)通过部分冷凝分离含氯化氢、光气、溶剂、低沸点物质和惰性物质的气流,形成液相和气相,被引入汽提塔顶部的所述液相主要由溶剂、光气和氯化氢组成,所述气流主要含有氯化氢、光气、低沸点物质、惰性物质和以该气流的重量为基准计不超过30重量%的溶剂;c)将步骤b)中引入汽提塔的主要由溶剂、光气和氯化氢组成的所述液相分离为溶剂相和气相,其中所述溶剂相以液体形式从所述汽提塔的底部排出,以该底部液流的重量为基准计,所述溶剂相中的光气浓度<0.1重量%,所述气相从汽提塔顶部排出,所述气相含有光气、氯化氢、低沸点物质、惰性物质和以该气相的重量为基准计小于30重量%的溶剂;d)使步骤c)中形成的所述溶剂相返回到步骤a)的所述光气化反应中;e)将步骤c)中得到的所述气相引入吸收设备中,在该吸收设备中,所述气相中含有的光气被吸收到与步骤a)的光气化反应中使用的相同的溶剂中,从而形成光气浓度为20-80重量%的光气溶液,该重量百分数是以所述光气溶液的重量为基准计的;f)任选地,使步骤e)中得到的所述光气溶液与额外的光气混合,形成浓缩的光气溶液;和g)使步骤e)中形成的所述光气溶液或步骤f)中形成的所述浓缩的光气溶液返回到步骤a)的光气化反应中。
地址 德国莱沃库森