| 主权项 |
1、一种底栅型FED下板制作方法，其特征在于，该方法通过以下步骤来实现：(1)制备感光银浆：该感光银浆由50-80重量份的银单体、10-30重量份的聚甲基丙烯酸树脂、1-5重量份的光引发剂、5-15重量份的2.2.4-三甲基-1.3戊二醇单异丁酸酯和0.5-1重量份的高分子分散剂BYK组成；(2)在清洁处理后的平板玻璃基片上，通过印刷一层或多层感光银浆制备银电极层，得到阴极玻璃基板(8)；(3)将阴极玻璃基板(8)置于烘箱中烘烤，烘烤温度为90-120℃、烘烤时间为20-30分钟，然后自然冷却；(4)通过所需栅极层(7)图形的掩膜版，将经步骤(3)处理过的基片置于紫外灯下曝光，曝光量为600-1000mJ/cm2，得到第一次曝光基片；(5)将第一次曝光基片采用质量百分比浓度为0.4％的Na2CO3溶液显影，显影速度为4-6m/min，显影压力为1.5kgf/cm2，得到所需栅极层(7)图形；(6)在显影后的栅极层(7)图形上面，通过印刷一层或多层感光银浆制备一层阴极电阻层(6)；(7)将经步骤(6)处理过的基片至烘箱中烘烤，烘烤温度为90-100℃、烘烤时间为20-30分钟，然后自然冷却；(8)通过所需阴极电阻层(6)图形的掩膜版，将经步骤(7)处理过的基片置于紫外灯下曝光，曝光量采用80mJ/cm2，得到第二次曝光基片；(9)在第二次曝光基片上印刷一层或多层感光银浆，得到阴极层(5)；(10)将经步骤(9)处理过的基片置于烘箱中烘烤，烘烤温度为90-120℃、烘烤时间为20-30分钟，然后自然冷却；(11)通过所需阴极层(5)图形的掩膜版，将经步骤(10)处理过的基片置于紫外灯下曝光，曝光量为600-1000mJ/cm2，得到第三次曝光基片；(12)将第三次曝光基片采用质量百分比浓度为0.4％的Na2CO3溶液显影，显影速度为5-6.5m/min，显影压力为1.5kgf/cm2，同时得到所需阴极层(5)的图形和阴极电阻层(6)的图形。 |
