| 发明名称 | 用于晶片或衬底的UV处理的装置 | ||
| 摘要 | 本实用新型涉及一种使用UV光对物体即晶片或衬底进行UV处理的装置，其包括UV光源(3)，所述UV光源包括多个LED(11)和热沉(12)。所述LED发射UV光或者含有UV光的光。所述热沉用于将由所述LED产生的废热散发到周围环境中。 | ||
| 申请公布号 | CN201298538Y | 申请公布日期 | 2009.08.26 |
| 申请号 | CN200820115092.8 | 申请日期 | 2008.05.15 |
| 申请人 | 波瓦泰克有限公司 | 发明人 | 鲁迪·波特曼 |
| 分类号 | H01L21/00(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/00(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京集佳知识产权代理有限公司 | 代理人 | 张 文;张春水 |
| 主权项 | 1. 一种用于晶片或衬底的UV处理的装置，包括UV光源(3)，其特征是，所述UV光源包括多个LED(11)和热沉(12)，其中，所述LED是能够发射UV光或者含有UV光的光的LED，并且所述热沉是用于将由所述LED产生的废热散发到周围环境中的热沉。 | ||
| 地址 | 瑞士胡嫩贝格 | ||