发明名称 |
铁基非晶纳米晶软磁材料的激光诱导表面纳米化制备方法 |
摘要 |
一种铁基非晶纳米晶软磁材料的激光诱导表面纳米化制备方法,属于材料技术领域,具体步骤为:采用固体脉冲激光器,沿非晶带长度方向或宽度方向进行不同搭接率的扫描,控制激光表面纳米化层的总厚度为2~10μm。当表面纳米化层的厚度为2~7μm时,对非晶带进行单面激光诱导处理;当纳米化层的厚度为7~10μm时,对非晶带进行双面激光诱导处理;形成纳米晶粒大小在5~40nm、相对数量为5~20%的α-Fe(Si)纳米晶相和剩余非晶相双相组织材料结构。本发明制备的非晶纳米晶带具有由于韧性良好进行盘圆而不脆断的特点,具有重要的应用价值。 |
申请公布号 |
CN101509053A |
申请公布日期 |
2009.08.19 |
申请号 |
CN200910010352.4 |
申请日期 |
2009.02.13 |
申请人 |
东北大学 |
发明人 |
陈岁元;刘常升;马利霞 |
分类号 |
C21D1/09(2006.01)I;C21D1/74(2006.01)I;C22C45/02(2006.01)I |
主分类号 |
C21D1/09(2006.01)I |
代理机构 |
沈阳东大专利代理有限公司 |
代理人 |
李运萍 |
主权项 |
1、一种铁基非晶纳米晶软磁材料的激光诱导表面纳米化制备方法,采用激光诱导Fe基非晶带表面纳米化,形成纳米晶α—Fe(Si)相,其特征在于:采用固体脉冲激光器,启动激光器沿非晶带长度方向或宽度方向进行不同搭接率的扫描,控制表面纳米化层的总厚度为2~10μm,表面纳米化层根据其总厚度分为两类:厚度为2~7μm的纳米化层和厚度为7~10μm的纳米化层;当纳米化层的厚度为2~7μm时,对非晶带进行单面激光诱导处理;当纳米化层的厚度为7~10μm时,对非晶带进行双面激光诱导处理;其中激光工艺参数为,激光的电流强度为105~150A、频率为30Hz、脉宽为0.4~0.9ms、光斑尺寸为5~10mm、扫描速度为5~20mm/s、搭接率为-1%~1%;激光扫描同时利用惰性气体进行同步保护处理。 |
地址 |
110004辽宁省沈阳市和平区文化路3号巷11号 |