发明名称 密封的室结构
摘要 本发明公开了用于形成密封的室结构的方法。所述密封的室结构包括被多个分隔壁(14)隔开的第一(10)和第二(12)基底。所述分隔壁在所述第一和第二基底之间限定多个室(18,19)。所述基底和分隔壁至少之一在它们上面具有光压纹材料层(16,22,30)。潜在图像被写(112)到所述光压纹材料上,和然后所述图像被显影,从而导致在对应于潜在图像的图案的区域(114)中光压纹材料的膨胀。光压纹材料的膨胀导致所述室被相互分开地密封。
申请公布号 CN101506728A 申请公布日期 2009.08.12
申请号 CN200780031188.4 申请日期 2007.08.17
申请人 皇家飞利浦电子股份有限公司 发明人 M·T·约翰逊;M·H·W·M·范德尔登;D·J·布罗尔
分类号 G02F1/167(2006.01)I 主分类号 G02F1/167(2006.01)I
代理机构 中国专利代理(香港)有限公司 代理人 周 铁;谭祐祥
主权项 1. 用于形成密封的室结构的方法,该密封的室结构包括第一(10)和第二(12)基底和多个分隔壁(14),所述方法包括:-在以下至少之一上形成光压纹材料:-所述第一基底;-所述第二基底;和-所述多个分隔壁;-通过所述多个分隔壁隔开所述第一和第二基底,从而在所述第一和第二基底之间限定多个室(18,19);-将潜在图像写(112)到所述光压纹材料中;和-显影所述潜在图像,导致所述光压纹材料被移位(118)从而使所述室相互密封分开。
地址 荷兰艾恩德霍芬