| 发明名称 | 用于光刻设备的吸杂装置和清洁结构以及清洁表面的方法 | ||
| 摘要 | 一种光刻设备包括辐射源和具有构造成滞留金属污染物的第一表面(302)的物体(301)。这个表面具有吸杂装置的功能。第一表面配置成基本上在光刻处理过程中位于由辐射源产生的辐射束所穿过的区域的外部。在一种清洁方法中第一表面还用来滞留所生成的挥发性污染物。 | ||
| 申请公布号 | CN101506737A | 申请公布日期 | 2009.08.12 |
| 申请号 | CN200780030613.8 | 申请日期 | 2007.06.28 |
| 申请人 | ASML荷兰有限公司 | 发明人 | 马腾·马瑞内斯·约翰内斯·威尔赫尔姆斯·范合鹏;威迪姆·耶乌根耶维奇·班尼恩;约翰内斯·休伯特斯·约瑟芬妮·摩尔斯;伍特·安东·索伦 |
| 分类号 | G03F7/20(2006.01)I;B08B7/00(2006.01)I | 主分类号 | G03F7/20(2006.01)I |
| 代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人 | 王新华 |
| 主权项 | 1. 一种光刻设备，其包括：辐射源，所述辐射源构造成提供辐射束；和物体，所述物体具有构造用于滞留金属污染物的第一表面，所述第一表面设置成在光刻处理过程中基本上位于由所述辐射源产生的所述辐射束所穿过的区域外部。 | ||
| 地址 | 荷兰维德霍温 | ||