| 摘要 |
1. Устройство для лучевой обработки материалов, содержащее корпус с рубашкой жидкостного охлаждения и открытой нижней частью, источник полихроматического излучения с отражателем, имеющим криволинейную внутреннюю отражающую оптическую поверхностью в виде раструба, направленного к открытой части корпуса, причем вершина отражателя сопряжена с прокладкой, снабженной уплотнителем и закрепленной в корпусе, в нижней открытой части корпуса установлено защитное стекло, а внутри раструба установлен вогнутый вверх криволинейный экран из прозрачного материала, при этом устройство снабжено источником когерентного излучения с направлением лазерного луча на материал в зоне нижнего рабочего фокуса отражателя, внутри которого вдоль его оси размещен катод с возможностью регулируемого вертикального перемещения в сторону анода, закрепленного в верхней части корпуса, при этом катод и анод соединены с источником предварительного подогрева и рабочим блоком питания, управляемыми сервисным блоком, связанного с блоком охлаждения корпуса, отличающееся тем, что указанная криволинейная отражающая оптическая поверхность источника полихроматического излучения выполнена в форме усеченного эллипсоида, разделенного на две части плотно сопряженные по поверхностям разделения с указанным прозрачным криволинейным экраном с возможностью образования двух камер, верхняя из которых герметично содержит плазмообразующий газ высокого давления, а нижняя является камерой низкого давления, при этом катод закреплен на вершине прозрачного криволинейного экрана, плотно сопряженного торцевой поверхностью с соответствующим выступом, � |
