发明名称 氟树脂薄膜、氟树脂复合体和多孔氟树脂复合体、它们的制法、以及分离膜元件
摘要 本发明提供:没有微孔和裂缝等缺陷的氟树脂薄膜,其特征在于,由氟树脂形成、膜厚度为20μm以下、并且葛尔莱秒数为300秒以上;所述氟树脂薄膜的制备方法,其特征在于,在平滑箔上涂覆将氟树脂粉末分散于分散介质中而得到的氟树脂分散体,然后将该分散介质干燥并对氟树脂粉末进行烧结;所述的氟树脂分散体;具有多孔基体和所述氟树脂薄膜的氟树脂复合体及其制备方法;将所述氟树脂复合体拉伸而形成的多孔氟树脂复合体;以及,使用所述多孔氟树脂复合体的分离膜元件。
申请公布号 CN101501113A 申请公布日期 2009.08.05
申请号 CN200780029499.7 申请日期 2007.08.06
申请人 住友电工超效能高分子股份有限公司 发明人 林文弘;古本逸睦;金泽进一;池田一秋;森田彻;船津始
分类号 C08J5/18(2006.01)I;B01D69/12(2006.01)I;B01D71/32(2006.01)I;B32B15/082(2006.01)I;B32B27/30(2006.01)I 主分类号 C08J5/18(2006.01)I
代理机构 北京天昊联合知识产权代理有限公司 代理人 丁业平;张天舒
主权项 1. 一种氟树脂薄膜,其特征在于,由氟树脂形成,膜厚度为20μm以下,并且葛尔莱秒数为300秒以上。
地址 日本大阪府