| 发明名称 | 利用光的干涉法提高纳米薄膜光催化功能的方法 | ||
| 摘要 | 本发明涉及一种利用光的干涉原理提高纳米薄膜光催化功能的方法，将具有光催化功能的纳米材料按一定光学厚度涂覆在基底材料上制成具有纳米结构的薄膜，其中，纳米薄膜为单材料层或两种材料交替制成；涂覆纳米薄膜时，待涂的基底材料与胶体溶液表面作相对运动，涂膜速度约为0.02-2.0cm/s，每层膜在400-550℃的温度下烘烤3-20min，待冷却到室温时再涂另一层。本发明利用胶体溶液表面和基底材料相对运动作为涂膜的方法达到控制膜厚，所制备的光催化纳米薄膜能够用于制备杀菌和降解有害气体的，对于要求一定透明度的这种薄膜更为有用。 | ||
| 申请公布号 | CN101497036A | 申请公布日期 | 2009.08.05 |
| 申请号 | CN200810049217.6 | 申请日期 | 2008.02.03 |
| 申请人 | 陆晓唯 | 发明人 | 陆晓唯;陆镝莱;陆治国 |
| 分类号 | B01J21/06(2006.01)I;B01J21/08(2006.01)I;B01J37/02(2006.01)I;A61L9/22(2006.01)N;A61L2/08(2006.01)N | 主分类号 | B01J21/06(2006.01)I |
| 代理机构 | 郑州联科专利事务所(普通合伙) | 代理人 | 陈 浩 |
| 主权项 | 1、一种利用光的干涉法提高纳米薄膜光催化功能的方法，其特征在于：将具有光催化功能的纳米材料按一定光学厚度涂覆在基底材料上制成具有纳米结构的薄膜，其中，纳米薄膜为单材料层或两种材料交替制成；涂覆纳米薄膜时，待涂的基底材料与胶体溶液表面作相对运动，涂膜速度约为0.02—2.0cm/s，每层膜在400—550℃的温度下烘烤3—20min，待冷却到室温时再涂另一层。 | ||
| 地址 | 450016河南省郑州市经济技术开发区第五大街109号 | ||