| 摘要 |
一种图型之形成方法，其为具有，将含有由具有酚之重复单位，与经由酸使硷溶解性提高之重复单位经共聚所得之高分子化合物之第1之正型光阻材料，涂布于基板上以形成第1之光阻膜，经加热处理后以高能量线进行曝光、显影，随后，经由波长200nm以下之高能量线之照射使第1之光阻膜交联硬化，随后于其上，将第2之正型光阻材料涂布于基板上，以形成第2之光阻膜，经加热处理后以高能量线曝光、显影之步骤。本发明之内容，为使第1之正型光阻材料于第1之图型形成后，对硷显影液与光阻溶液为不溶解化。于其上再涂布第2之光阻材料，经由曝光显影，使图型间之间距减半之方式进行重复图型化（描绘）。 |
