用于垂直磁性记录媒体中之软磁性薄膜层的合金与溅射靶材料

摘要

本发明系提供用于具有高饱和磁通量密度及高无定形特性之软磁性薄膜层的溅射靶材料，以及制造该溅射靶材料之方法。该溅射靶材料系由一合金制成，该合金含有Zr、Hf、Nb、Ta及B中之一或多者且数量符合5原子％≦（Zr+Hr+Nb+Ta）+B/2≦10原子％并具有7原子％或以下之B；总量为0至5原子％之Al及Cr；余量为Co和Fe，其数量符合0.20≦Fe/（Fe+Co）≦0.65（原子％比率），以及无可避免之杂质。