气体供给装置

摘要

具备有导入处理气体之多数导入埠(51a、52a、53a、54a)，和导引处理气体之气体流路(511、512、521、522、531、532)之气体供给装置本体(4a)，和被配置成与载置于处理容器(2)内之载置台(3)之基板(W)对向，具有将处理气体供给至基板(W)之多数气体供给孔(51b、52b、53b)之气体供给板(44、45)。气体供给板(44、45)包含多数气体供给孔(51b、52b、53b) ，具有供给互相不同之多数处理气体的第1气体供给板(45)，和含有多数气体供给孔之第2气体供给板(44)。第1气体供给板(45)系被设置成对气体供给装置本体装卸自如。