发明名称 POSITIVPHOTORESISTZUSAMMENSETZUNG UND VERFAHREN ZUR AUSBILDUNG EINER RESISTSTRUKTUR
摘要
申请公布号 DE602004021601(D1) 申请公布日期 2009.07.30
申请号 DE200460021601T 申请日期 2004.07.15
申请人 TOKYO OHKA KOGYO CO. LTD. 发明人 MASUDA, YASUO;OKUI, TOSHIKI
分类号 C08G8/00;C08G8/10;C08G14/00;C08L61/06;G03F7/023;H01L21/027 主分类号 C08G8/00
代理机构 代理人
主权项
地址