发明名称 RADIATION SYSTEM AND LITHOGRAPHIC APPARATUS COMPRISING THE SAME
摘要
申请公布号 EP2082289(A2) 申请公布日期 2009.07.29
申请号 EP20070808590 申请日期 2007.09.25
申请人 ASML NETHERLANDS B.V.;KONINKLIJKE PHILIPS ELECTRONICS N.V. 发明人 VAN HERPEN, MAARTEN MARINUS JOHANNES WILHELMUS;BANINE, VADIM YEVGENYEVICH;FRANKEN, JOHANNES CHRISTIAAN LEONARDUS;FRIJNS, OLAV WALDEMAR VLADIMIR;KLUNDER, DERK JAN WILFRED;DRIESSEN, NIELS MACHIEL;SOER, WOUTER ANTHON
分类号 G03F7/20 主分类号 G03F7/20
代理机构 代理人
主权项
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