| 发明名称 | 遮光膜形成用感光性组合物、由该遮光膜形成用感光性组合物形成的黑底 | ||
| 摘要 | 一种遮光膜形成用感光性组合物，其含有(a)作为遮光性颜料的炭黑、(b)光聚合性化合物和(c)光聚合引发剂，上述炭黑的分散粒径为100—250nm，优选为150—200nm。 | ||
| 申请公布号 | CN100520577C | 申请公布日期 | 2009.07.29 |
| 申请号 | CN200510127185.3 | 申请日期 | 2005.11.30 |
| 申请人 | 东京应化工业株式会社 | 发明人 | 丸山健治;信太胜;内河喜代司 |
| 分类号 | G03F7/004(2006.01)I | 主分类号 | G03F7/004(2006.01)I |
| 代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人 | 朱 丹 |
| 主权项 | 1.一种遮光膜形成用感光性组合物，其特征在于含有(a)作为遮光性颜料的炭黑、(b)光聚合性化合物和(c)光聚合引发剂，所述炭黑的分散粒径为100—250nm，所述(b)光聚合性化合物含有用式(I)表示的化合物，<img file="C200510127185C00021.GIF" wi="1546" he="415" />式(I)中，X是用式(II)表示的基团，<img file="C200510127185C00022.GIF" wi="1712" he="435" />Y是从二羧酸酐除去羧酸酐基即-CO-O-CO-后形成的残基，Z是从四羧酸二酐除去两个羧酸酐基后形成的残基。 | ||
| 地址 | 日本神奈川县 | ||