| 发明名称 | 光刻设备及器件制造方法 | ||
| 摘要 | 一种光刻设备，包括：辐射源，配置成向照明系统提供辐射，该辐射源配置成提供第一波长范围和第二波长范围的辐射，该第二波长范围不同于该第一波长范围；支撑物，配置成支撑图形化装置，该图形化装置配置成向辐射的横截面传递图形；衬底工作台，配置成支撑衬底；投影系统，配置成将图形化的辐射投影到衬底的目标部分上，其中使用第一波长范围曝光衬底，并且第二波长范围用于曝光另外的衬底。本发明还提供了一种器件制造方法。 | ||
| 申请公布号 | CN100520588C | 申请公布日期 | 2009.07.29 |
| 申请号 | CN200510059568.1 | 申请日期 | 2005.03.30 |
| 申请人 | ASML荷兰有限公司 | 发明人 | E·A·F·范德帕斯奇;M·H·M·比姆斯;M·H·A·里德斯 |
| 分类号 | G03F7/20(2006.01)I;H01L21/027(2006.01)I | 主分类号 | G03F7/20(2006.01)I |
| 代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人 | 王波波 |
| 主权项 | 1、一种光刻设备，包括：辐射源，配置成向照明系统提供辐射，该辐射源配置成提供第一波长范围和第二波长范围的辐射，该第二波长范围不同于该第一波长范围；支撑物，配置成支撑图形化装置，该图形化装置配置成向辐射的横截面传递图形；衬底工作台，配置成支撑衬底；投影系统，配置成将图形化的辐射投影到衬底的目标部分上，其中使用第一波长范围曝光衬底，并且第二波长范围用于曝光另外的衬底。 | ||
| 地址 | 荷兰维尔德霍芬 | ||