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经营范围
发明名称
蚀刻液
摘要
本发明系提供一种蚀刻液,其可抑制镍以外的金属(特别是铜)的侵蚀。于含有硝酸或硫酸、以及过氧化氢、以及水之镍蚀刻液当中,含有具有选自从下述式(Ⅰ)、下述式(Ⅱ)及下述式(Ⅲ)中之至少1种之重复单位的聚合物。#P 097144320P01.bmp(其中,R#sB!1#eB!~R#sB!5#eB!为氢、胺基、亚胺基、氰基、偶氮基、硫基、磺酸基、羟基、羰基、羧基、硝基、烷基、环烷基、芳香基或苯甲基,可为相同或相异,又,该重复单位内所包含之胺亦可为第四级铵盐的形态)。
申请公布号
TW200930839
申请公布日期
2009.07.16
申请号
TW097144320
申请日期
2008.11.17
申请人
MEC股份有限公司
发明人
片山大辅;栗井雅代
分类号
C23F1/28(2006.01);C09K13/06(2006.01)
主分类号
C23F1/28(2006.01)
代理机构
代理人
桂齐恒;阎启泰
主权项
地址
日本
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