光阻双重图形化

摘要

提供一种将形成于基板上之蚀刻层加以蚀刻的方法。将具有第一遮罩特征部之第一光阻(PR)遮罩设置于蚀刻层上。藉由包含至少一循环之制程将保护涂层设置于第一PR遮罩上。每一循环包含(a)沉积阶段：利用沉积气体，将沉积层沉积于第一遮罩特征部之表面上；(b)轮廓成形阶段：利用轮廓成形气体，将沉积层之轮廓加以塑形。将液态PR材料涂布于具有保护涂层之第一PR遮罩上。将PR材料图案化成第二遮罩特征部，其中第一及第二遮罩特征部形成第二PR遮罩。透过此第二PR遮罩而蚀刻此蚀刻层。