发明名称 |
具有主动阻尼次组件的微影装置 |
摘要 |
本发明揭示一种微影装置,该微影装置包括:一投影系统,该投影系统用以将一经图案化辐射光束投影至一基板上;及一阻尼系统,该阻尼系统用以阻尼该投影系统之至少一部分之一振动,该阻尼系统包括一界面阻尼质量及一用以阻尼该界面阻尼质量之至少一部分之一振动的主动阻尼次系统,该界面阻尼质量连接至该投影系统,且该主动阻尼次系统连接至该界面阻尼质量,该主动阻尼次系统包括一用以量测该界面阻尼质量之一位置量的感测器及一用以基于一由该感测器所提供之信号而将一力施加于该界面阻尼质量上的致动器。该阻尼系统进一步包括一界面阻尼器件,该界面阻尼器件连接至该界面阻尼质量且经组态以阻尼该界面阻尼质量在该界面阻尼质量之一固有频率下之一移动。 |
申请公布号 |
TW200931195 |
申请公布日期 |
2009.07.16 |
申请号 |
TW097140326 |
申请日期 |
2008.10.21 |
申请人 |
ASML荷兰公司 |
发明人 |
汉斯 布特勒;艾瑞克 罗勒夫 洛卜史塔;马克 威海玛 马里亚 范 德 威斯特;乔斯特 迪 皮;柯纳路斯 亚德安那司 兰波特思 迪 亨;史汀 波斯柯 |
分类号 |
G03F7/20(2006.01);F16F15/02(2006.01) |
主分类号 |
G03F7/20(2006.01) |
代理机构 |
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代理人 |
陈长文 |
主权项 |
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地址 |
荷兰 |