一种制作聚合物自支撑纳微米线的方法

摘要

本发明涉及一种制作聚合物自支撑纳微米线的方法，属于聚合物微结构材料技术领域。首先制作具有起伏条纹微图案表面的母板；将聚二甲基硅氧烷的硅胶预聚体和硅胶交联剂混合均匀，浇注到上述母板表面上，固化后揭去母板，得到聚合物软印章；聚合物溶解在溶剂中作为墨水溶液，将软印章浸入墨水溶液中，然后将该软印章压印在基板上，揭起软印章，在基板上得到由墨水溶液固化后的聚合物的起伏条纹微图案；用氢氟酸水溶液刻蚀基板，得到聚合物自支撑纳微米线。用本发明的方法取代常规工艺制作聚合物自支撑纳微米线(包括聚合物微导线)，具有工艺简单、成本低、高效可控和适用广泛等优点。

主权项

1、一种制作聚合物自支撑纳微米线的方法，其特征在于，该方法包括以下步骤：(1)制作具有起伏条纹微图案表面的母板，母板的制作方法为：将环氧树脂基偶氮聚合物0.05～2克溶于1毫升N，N-二甲基甲酰胺中，溶液用0.2微米针头过滤器过滤，然后将过滤后的溶液在玻璃片上旋涂成膜，40～80℃干燥2～48小时，得到偶氮聚合物薄膜；以两束P偏振干涉的488纳米Ar⁺激光照射偶氮聚合物薄膜，时间5～60分钟，得到具有表面起伏光栅的偶氮聚合物薄膜母板，其中环氧树脂基偶氮聚合物的结构式为：或：将光敏聚合物0.05～1克溶于1毫升N，N-二甲基甲酰胺中，溶液用0.2微米针头过滤器过滤，将过滤后的溶液在玻璃片上旋涂成膜，40～80℃干燥2～48小时，然后将镀铬的图案化光掩膜放在旋涂膜上，在紫外光灯下曝光5～40分钟，曝光之后的旋涂膜在丙酮或四氢呋喃中浸泡10～60秒，最后40～80℃干燥2～48小时，得到具有表面起伏微图案的母板，其中的光敏聚合物具有以下结构式，接枝率为30％：(2)制作软印章：将聚二甲基硅氧烷的硅胶预聚体和硅胶交联剂按质量比3:1～20:1混合均匀，浇注到上述母板表面上，静置4～10分钟后，加热至40℃～80℃，反应1～8小时，固化后揭去母板，得到软印章；(3)压印墨水溶液：将上述软印章浸入墨水溶液中，然后将该软印章压印在基板上，揭起软印章，在基板上得到由墨水溶液固化后的聚合物的起伏条纹微图案，其中所述的基板为玻璃片、硅片或石英片中的任意一种；(4)刻蚀基板：用氢氟酸水溶液刻蚀基板，得到聚合物自支撑纳微米线。