氧化铈/氧化硅复合磨料的制备方法和用途

摘要

一种氧化铈/氧化硅复合磨料的制备方法和用途，以单分散球形氧化硅作为包覆型复合磨料的内核，并以六亚甲基四胺(HMT)为沉淀剂，以及铈盐为原料，采用均匀沉淀法工艺进行合成。通过优化氧化硅母粒子与铈盐的用量比，HMT和铈盐的摩尔比，反应和煅烧温度等工艺参数来控制氧化铈颗粒在氧化硅表面的包覆量、形貌以及分布状态，从而制备了纳米级的氧化铈颗粒在氧化硅表面均匀包覆、单分散性好的氧化铈/氧化硅复合磨料，无需复杂的设备，所需化学原料种类少，价格便宜，实验可重复性好。并将其配制成抛光浆料用于砷化镓晶片的化学机械抛光，获得了粗糙度在亚纳米量级的抛光表面，进一步提高抛光速率，减少抛光道次，提高效率。

主权项

1、一种氧化铈/氧化硅复合磨料的制备方法，其特征在于，将粒径在200～250nm的单分散氧化硅微球分散在去离子水中，加入以分散剂的质量与氧化硅微球的质量比计算的质量份数为10wt％的分散剂，再向质量浓度范围为0.5～5wt％的氧化硅悬浮液中加入铈盐，用电磁搅拌器搅拌均匀，铈离子的浓度范围为0.01mol/l～0.5mol/l，再加入六亚甲基四胺与铈盐的摩尔浓度比为2∶1～20∶1的六亚甲基四胺，搅拌均匀；将配制的反应溶液在电磁搅拌的条件下置于70～90℃的水浴中反应1～5h，将沉淀物离心分离、洗涤，再置于70℃鼓风干燥箱中烘干、研磨，再经300～600℃煅烧0.5～4h，即可得到氧化铈/氧化硅包覆型复合磨料。