发明名称 | 一种荧光示踪阻垢剂及其制备方法 | ||
摘要 | 一种荧光示踪阻垢剂及其制备方法,该阻垢剂是由乌头酸或其盐、含乙烯基不饱和双键单体与含芘类荧光基团的苄氧基乙烯基单体进行自由基聚合反应而得到的固含量为20~50wt%的水溶液,其结构式为上式,结构式中B代表含乙烯基不饱和双键单体聚合后的重复结构单元;M是H<sup>+</sup>、NH<sub>4</sub><sup>+</sup>、Na<sup>+</sup>或K<sup>+</sup>中的一种或多种的组合,m,n和p表示聚合度,m为1~5000,n为1~5000,p为1~5000。 | ||
申请公布号 | CN101475266A | 申请公布日期 | 2009.07.08 |
申请号 | CN200910028143.2 | 申请日期 | 2009.01.09 |
申请人 | 东南大学 | 发明人 | 周钰明;余洁;杜琨;吴文导 |
分类号 | C02F5/10(2006.01)I | 主分类号 | C02F5/10(2006.01)I |
代理机构 | 南京经纬专利商标代理有限公司 | 代理人 | 叶连生 |
主权项 | 1、一种荧光示踪阻垢剂,其特征在于该荧光示踪阻垢剂是由乌头酸或其盐、含乙烯基不饱和双键单体与含芘类荧光基团的苄氧基乙烯基单体进行自由基聚合反应而得到的固含量为20~50wt%的水溶液,其结构式为:<img file="A200910028143C00021.GIF" wi="1473" he="859" />其中B代表含乙烯基不饱和双键单体聚合后的重复结构单元;M是H<sup>+</sup>、<img file="A200910028143C0002171424QIETU.GIF" wi="119" he="78" />、Na<sup>+</sup>或K<sup>+</sup>中的一种或多种的组合,m,n和p表示聚合度,m为1~5000,n为1~5000,p为1~5000。 | ||
地址 | 210096江苏省南京市四牌楼2号 |