发明名称 不饱和单体、聚合物、化学增幅抗蚀剂组合物、和形成图案的方法
摘要 本发明提供化学增幅抗蚀剂组合物,该组合物具有对波长不超过220纳米的光的高透明性,优异的抗蚀性,和优异的对衬底的粘附力。通过使用至少一种如下的重复结构单元制备化学增幅抗蚀剂组合物:由通式(III)表示的具有桥接脂环式γ-内酯结构的重复结构单元、由通式(IV)表示的具有桥接脂环式γ-内酯结构的重复结构单元、和由通式(V)表示的具有桥接脂环式γ-内酯结构的重复结构单元。
申请公布号 CN100509877C 申请公布日期 2009.07.08
申请号 CN03801743.1 申请日期 2003.06.27
申请人 日本电气株式会社 发明人 前田胜美;中野嘉一郎
分类号 C08F20/28(2006.01)I;C08F32/08(2006.01)I;C08G61/12(2006.01)I;C07D307/93(2006.01)I;G03F7/039(2006.01)I 主分类号 C08F20/28(2006.01)I
代理机构 中原信达知识产权代理有限责任公司 代理人 樊卫民;杨 青
主权项 1.一种由通式(I)表示的具有桥接脂环式γ-内酯结构的(甲基)丙烯酸酯衍生物:<img file="C03801743C00021.GIF" wi="1000" he="481" />其中R<sup>1</sup>表示氢原子或甲基,R<sup>2</sup>和R<sup>3</sup>各自表示氢原子或碳数为1~6的烷基,X表示-CH<sub>2</sub>-或-O-,Z表示氢原子或甲基,和n表示0或1,其中当n表示0和X表示-CH<sub>2</sub>-时,R<sup>2</sup>和R<sup>3</sup>各自表示碳数为1~6的烷基。
地址 日本东京