曝光装置

摘要

本发明提供一种不需要复杂的结构就能够一边使粘着辊与转印辊接触一边对掩模表面和载物台表面或者工件表面同时进行除尘的曝光装置。对于各曝光部(2、4)内的清洁单元(12)，使粘着辊(57、57)突出并旋转自如地枢轴支承在分别与掩模(10)和载物台(8)对置的一侧。这两个粘着辊(57、57)的外周面和平行于该粘着辊地枢轴支承的大径转印辊(58)的外周面彼此接触。进而，Y-Z载物台(40)使粘着辊(57)与掩模(10)接触并对该掩模(10)的表面进行除尘，使粘着辊(57)与载物台(8)的上表面接触并对该载物台(8)的上表面进行除尘。另外，反转装置(9)使吸附基座(30)以旋转轴为中心进行旋转，吸附基座(30)越过水平方向停止在倾斜的位置，在利用清洁单元(13)对工件(W)的表面进行除尘之后，使所述吸附基座(30)朝向水平方向。

主权项

1、一种曝光装置，所述曝光装置在对基板的第一面进行曝光的第一曝光部和对第二面进行曝光的第二曝光部之间具有基板的反转构件，其特征在于，在所述第一曝光部中设有：掩模；用于固定基板的载物台；载物台移动构件，其使所述掩模和所述载物台相对接近，进一步使二者接触；光源，其透过所述掩模对所述基板照射光；除尘构件，其对所述掩模的与所述基板接触的面以及所述载物台的与基板接触的面进行除尘；以及输送构件，其将所述基板从投入部经由第一曝光部输送至反转部，在所述第二曝光部中设有：掩模；用于固定基板的载物台；载物台移动构件，其使所述掩模和所述载物台相对接近，进一步使二者接触；光源，其透过所述掩模对所述基板照射光；除尘构件，其对所述掩模的与所述基板接触的面以及所述载物台的与基板接触的面进行除尘；以及输送构件，其将所述基板从反转部经由第二曝光部输送至运出部，所述曝光装置具有：对第一曝光部的掩模和载物台进行除尘的第一除尘构件；对第二曝光部的掩模和载物台进行除尘的第二除尘构件；以及在位于第一曝光部和第二曝光部的中间的反转部，对所述基板的第二面进行除尘的第三除尘构件，所述反转构件使第一面被所述第一曝光部曝光后的基板反转。