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发明名称
萧特基障壁二极体
摘要
本发明之萧特基障壁二极体(1)具备:具有表面(2a)之GaN自立基板、形成于表面(2a)上之GaN磊晶层(3)、以及形成于GaN磊晶层(3)之表面(3a)上且形成有开口部之绝缘层(4)。另外,具备电极(5)。电极(5)包括萧特基电极与场板电极,该萧特基电极系于开口部之内部以接触于GaN磊晶层(3)之方式形成,该场板电极系以连接于萧特基电极且与绝缘层(4)重叠之方式形成。GaN自立基板(2)之差排密度为l×l0#sP!8 #eP!㎝#sP!-2#eP!以下。
申请公布号
TW200929553
申请公布日期
2009.07.01
申请号
TW097132583
申请日期
2008.08.26
申请人
住友电气工业股份有限公司
发明人
堀井拓;宫崎富仁;木山诚
分类号
H01L29/872(2006.01);H01L29/47(2006.01)
主分类号
H01L29/872(2006.01)
代理机构
代理人
陈长文
主权项
地址
日本
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