发明名称 | 应变绝缘硅 | ||
摘要 | 本发明提供在具有不同晶向的SOI衬底上形成的集成半导体器件,从而为特殊器件提供最佳性能。特别是,提供一种包括至少一个SOI衬底的集成半导体结构,SOI衬底具有第一晶向的顶部半导体层以及具有第二晶向的半导体材料,其中半导体材料与顶部半导体层基本共面并且与其厚度基本相同,并且第一晶向与第二晶向不同。SOI衬底是通过在一个结构中形成孔而形成的,该结构包括具有不同晶向的至少一个第一半导体层和第二半导体层。半导体材料是在孔中外延生长的,接着使用不同刻蚀和深刻蚀加工步骤形成SOI衬底。 | ||
申请公布号 | CN100505276C | 申请公布日期 | 2009.06.24 |
申请号 | CN200710109001.X | 申请日期 | 2004.08.19 |
申请人 | 国际商业机器公司 | 发明人 | 杨美基;杨敏 |
分类号 | H01L27/12(2006.01)I | 主分类号 | H01L27/12(2006.01)I |
代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人 | 付建军 |
主权项 | 1. 一种应变绝缘硅,包括至少一个SOI衬底,所述SOI衬底包括第一晶向的第一应变Si层和第二晶向的第二应变Si层,所述第二应变Si层与所述第一应变Si层共面,并与所述第一应变Si层的厚度相同,并且所述第一晶向与所述第二晶向不同,其特征在于还包括一个侧向隔离第一应变Si层和第二应变Si层的间隔,所述间隔具有低于第一应变Si层和第二应变Si层的表面的表面。 | ||
地址 | 美国纽约 |