| 主权项 |
1.一种水冷头结构改良，包括：一第一盖体，该第一盖体凸设有多数个间隔设置的导热部，该等导热部之间形成多数个流道；一第二盖体，该第二盖体盖合于该第一盖体上，该第二盖体与第一盖体之间形成一容置空间，该第二盖体设有与该容置空间连通之至少一进水口及至少一出水口；以及一调节件，该调节件设置于该第二盖体底部，该调节件凸设有多数个间隔设置的凸出部，该等凸出部分别对应地凸伸于该等流道中，且每一凸出那底部形成有非水平面的导引面。2.如申请专利范围第1项所述之水冷头结构改良，其中该第一盖体底面系贴附于一发热源。3.如申请专利范围第1项所述之水冷头结构改良，其中该导热部为散热片。4.如申请专利范围第1项所述之水冷头结构改良，其中该导热部为导热柱。5.如申请专利范围第1项所述之水冷头结构改良，其中该等导热部系为等间距地设置。6.如申请专利范围第1项所述之水冷头结构改良，其中该等导热部系为不等间距地设置。7.如申请专利范围第1项所述之水冷头结构改良，其中该等流道系为规则状排列设置。8.如申请专利范围第1项所述之水冷头结构改良，其中该等流道系为不规则状排列设置。9.如申请专利范围第1项所述之水冷头结构改良，其中该等流道为层流式设计之流道。10.如申请专利范围第1项所述之水冷头结构改良，其中该调节件与该第二盖体为一体成型。11.如申请专利范围第1项所述之水冷头结构改良，其中该等凸出部系为规则状排列设置。12.如申请专利范围第1项所述之水冷头结构改良，其中该等凸出部系为不规则状排列设置。13.如申请专利范围第1项所述之水冷头结构改良，其中该凸出部为隔板。14.如申请专利范围第1项所述之水冷头结构改良，其中该凸出部的宽度恰与对应之该流道的宽度相同。15.如申请专利范围第1项所述之水冷头结构改良，其中该导引面为中央凸出的弧面。图式简单说明：第一图系习知的水冷头结构的立体分解示意图。第二图系习知的水冷头结构的立体组合示意图。第三图系本创作水冷头结构改良之第一实施例的立体组合示意图。第四图系本创作水冷头结构改良之第一实施例的立体分解示意图。第五图系本创作水冷头结构改良之第一实施例另一角度的立体分解示意图。第六图系本创作水冷头结构改良之第一实施例的俯视示意图。第七图系第六图之7-7剖视示意图。第八图系第六图之8-8剖视示意图。第九图系第六图之9-9剖视示意图。第十图系本创作水冷头结构改良之第二实施例的立体分解示意图。第十一图系本创作水冷头结构改良之第三实施例的立体分解示意图。 |
