发明名称 植物培菌箱结构
摘要
申请公布号 TWM358527 申请公布日期 2009.06.11
申请号 TW098200243 申请日期 2009.01.08
申请人 李音缘 台中市东区十智街43号 发明人 李音缘
分类号 A01G9/02 (2006.01) 主分类号 A01G9/02 (2006.01)
代理机构 代理人 王国东 台中市北区文心路4段200号10楼之5
主权项 1.一种植物培菌箱构造,其系包括:一第一角板组,该第一角板组设有数第一角板体及一第一侧板体,而数第一角板体之一侧缘设有一对合凸部,其第一侧板体之二侧边系与第一角板体所设对合凸部对合;一第二角板组,该第二角板组设有数第二角板体及一第二侧板体,而数第二角板体之二侧缘分设有一对合凸部,其第二侧板体之二侧边系与第二角板体所设对合凸部对合,且第二角板体之另侧所设对合凸部,系与第一角板组之第一角板体一侧相对结合;一下盖板体,该下盖板体内设有盛水部,且第一、二角板组所设第一、二角板体之外侧缘,系卡制于下盖板体所设盛水部内侧;一承板架体,该承板架体设有数支架件及数承板件,且该支架件系与承板件结合,且该承板架体系置入结合之第一、二角板组内,且该承板架体之支架件底侧,抵顶于下盖板体所设盛水部底面;一上盖板体,该上盖板体内侧设有一卡制缘部,该卡制缘部系卡制于结合之第一、二角板组顶侧面,而承板架体之支架件顶侧,抵顶于上盖板体所设卡制缘部顶面。2.如申请专利范围第1项所述之植物培菌箱构造,其中,第一角板组之对合凸部设有数结合孔,而第一侧板体之二长边侧分设有数穿制孔,该穿制孔穿制设有结合件,而第一侧板体所设穿制孔,系与第一角板体之对合凸部所设结合孔相对并以结合件结合。3.如申请专利范围第1项所述之植物培菌箱构造,其中,第二角板组之对合凸部设有数结合孔,而第二侧板体之二长边侧分设有数穿制孔,该穿制孔穿制设有结合件,而第二侧板体所设穿制孔,系与第二角板体之对合凸部所设结合孔相对并以结合件结合。4.如申请专利范围第1项所述之植物培菌箱构造,其中,第一角板体之一侧缘设有数锁合孔,该锁合孔结合设有锁合件,而第二角板体之对合凸部设有结合孔,该结合孔系与第一角板组之第一角板体所设锁合孔相对并以锁合件锁合。5.如申请专利范围第1项所述之植物培菌箱构造,其中,第一角板体设有数注入孔,该注入孔结合设有封塞件。6.如申请专利范围第1项所述之植物培菌箱构造,其中,第二角板体设有数注入孔,该注入孔结合设有封塞件。7.如申请专利范围第1项所述之植物培菌箱构造,其中,上盖板体设有数注入孔,该注入孔结合设有封塞件。8.如申请专利范围第1项所述之植物培菌箱构造,其中,承板架体之数承板件间设有间距,且最底层承板件与支架件底侧亦具有一间距。9.如申请专利范围第1项所述之植物培菌箱构造,其中,上、下盖板体及第一、二角板组外,罩设一遮蔽外罩体,而该遮蔽外单体之各边相接处分设有一开合部。10.一种植物培菌箱构造,其系包括:一第一角板组,该第一角板组设有数第一角板体及一第一侧板体,而第一角板组之第一角板体二侧边缘分设有一卡合部,而第一侧板体之二长边侧分设有一卡接部,其第一角板体所设卡合部,系与第一侧板体所设卡接部卡制接合;一第二角板组,该第二角板组设有数第二角板体及一第二侧板体,而第二角板组之第二角板体二侧边缘分设有一卡接部,而第二侧板体之二长边侧分设有一卡合部,其第二角板体所设卡接部,系与第二侧板体所设卡合部卡制接合,另第二角板体一侧所设卡接部,系与第一角板体一侧所设卡合部卡合;一下盖板体,该下盖板体内设有盛水部,且第一、二角板组所设第一、二角板体之外侧缘,系卡制于下盖板体所设盛水部内侧;一承板架体,该承板架体设有数支架件及数承板件,且该支架件系与承板件结合,且该承板架体系置入结合之第一、二角板组内,且该承板架体之支架件底侧,抵顶于下盖板体所设盛水部底面;一上盖板体,该上盖板体内侧设有一卡制缘部,该卡制缘部系卡制于结合之第一、二角板组顶侧面,而承板架体之支架件顶侧,抵顶于上盖板体所设卡制缘部顶面。11.如申请专利范围第10项所述之植物培菌箱构造,其中,第一角板体设有数注入孔,该注入孔结合设有封塞件。12.如申请专利范围第10项所述之植物培菌箱构造,其中,第二角板体设有数注入孔,该注入孔结合设有封塞件。13.如申请专利范围第10项所述之植物培菌箱构造,其中,上盖板体设有数注入孔,该注入孔结合设有封塞件。14.如申请专利范围第10项所述之植物培菌箱构造,其中,承板架体之数承板件间设有间距,且最底层承板件与支架件底侧亦具有一间距。15.如申请专利范围第10项所述之植物培菌箱构造,其中,上、下盖板体及第一、二角板组外,罩设一遮蔽外单体,而该遮蔽外单体之各边相接处分设有一开合部。图式简单说明:第一图系本创作之立体组合状态示意图。第二图系本创作之立体分解状态示意图。第三图系本创作之剖面状态示意图。第四图系本创作之使用状态参考图。第五图系本创作之第一实施例参考图。第六图系本创作之第一实施例局部放大状态示意图。第七图系本创作之第二实施例参考图。
地址