| 发明名称 | 等离子体处理装置及其屏蔽环 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种等离子体屏蔽环，包括固定连接于一体的上、下两层，其上层为耐等离子体的绝缘层(21)，其下层为导体层(22)；至少一个轴向延伸的排气通道(23)贯穿所述绝缘层(21)和导体层(22)，所述排气通道(23)为弯折通道。本发明还公开了一种包括所述等离子体屏蔽环(2)的等离子体处理装置。在排气通道(23)为弯折通道的情况下，绝大多数带电粒子将不可避免地与其弯折的内壁发生碰撞，进而失去所携带的电荷，转化为无害的中性粒子。因此，本发明所提供的等离子体屏蔽环(2)对等离子体的约束效果显著提高；本发明所提供的等离子体处理装置的内部结构不易受到破坏，其使用寿命显著延长。 | ||
| 申请公布号 | CN101452821A | 申请公布日期 | 2009.06.10 |
| 申请号 | CN200710178984.2 | 申请日期 | 2007.12.07 |
| 申请人 | 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 | 发明人 | 南建辉;宋巧丽 |
| 分类号 | H01L21/00(2006.01)I;H01L21/02(2006.01)I;H01L21/205(2006.01)I;H01L21/3065(2006.01)I;H01L21/31(2006.01)I;H01L21/311(2006.01)I;H01L21/3205(2006.01)I;H01L21/3213(2006.01)I;H01J37/32(2006.01)I;H05H1/00(2006.01)I;H05H1/46(2006.01)I;C23C16/44(2006.01)I;C23C16/513(2006.01)I;C23F4/00(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/00(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京集佳知识产权代理有限公司 | 代理人 | 逯长明 |
| 主权项 | 1、一种等离子体屏蔽环，包括固定连接于一体的上、下两层，其上层为耐等离子体的绝缘层(21)，其下层为导体层(22)；至少一个轴向延伸的排气通道(23)贯穿所述绝缘层(21)和导体层(22)，其特征在于，所述排气通道(23)为弯折通道。 | ||
| 地址 | 100016北京市朝阳区酒仙桥东路1号M5楼北方微电子 | ||