| 发明名称 | 选择性光褪色制备多色发光图案的方法 | ||
| 摘要 | 本发明属于荧光染料-有机发光小分子发光图案化领域，具体涉及一种通过控制有机发光小分子在聚合物薄膜中的扩散，实现用一种有机发光小分子制备多色发光图案的方法。其首先是选取无机基底，对基底表面进行清洁处理后，通过旋涂的方法覆盖上一层聚合物，聚合物薄膜的厚度为50～300nm；在聚合物的表面蒸镀厚度为1～10nm的有机发光小分子薄膜；在常温常压下放置3～10周后，使有机发光小分子部分渗透到聚合物薄膜中；利用掩模板阻挡，紫外光照射，从而制备得到多色发光图案。本发明所述方法具有制作成本低廉、工艺简单、耗时短的特点，可用于制备大面积的多色发光图案。此方法在制备传感器、发光器件或显示器件中具有广泛的应用。 | ||
| 申请公布号 | CN101445927A | 申请公布日期 | 2009.06.03 |
| 申请号 | CN200810051679.1 | 申请日期 | 2008.12.25 |
| 申请人 | 吉林大学 | 发明人 | 吕男;高立国;郝娟媛;胡伟;石刚;迟力峰 |
| 分类号 | C23C28/00(2006.01)I;B05D7/24(2006.01)I;C23C14/12(2006.01)I;C23C14/58(2006.01)I | 主分类号 | C23C28/00(2006.01)I |
| 代理机构 | 长春吉大专利代理有限责任公司 | 代理人 | 张景林;刘喜生 |
| 主权项 | 1、选择性光褪色制备多色发光图案的方法，其包括如下步骤：1)选取无机基底，对基底表面进行清洁处理后，通过旋涂的方法覆盖上一层聚合物，聚合物薄膜的厚度为50～300nm；2)在聚合物的表面蒸镀厚度为1～10nm的有机发光小分子薄膜；3)在常温常压下放置3～10周后，使有机发光小分子部分渗透到聚合物薄膜中；4)利用掩模板阻挡，紫外光照射，从而制备得到多色发光图案。 | ||
| 地址 | 130023吉林省长春市朝阳区前进大街2699号 | ||