| 发明名称 | 卤素类气体的除去方法及卤素类气体的除去剂 | ||
| 摘要 | 本发明提供低浓度区域的本卤素类气体的除去处理能力良好，且可以抑制吸附剂发热，减少固体废弃物的产生量的卤素类气体的除去方法及卤素类气体的除去剂。卤素类气体的除去方法，其中，使包含选自卤素类气体的至少一种的被处理气体与造粒物在水的存在下接触来除去所述卤素类气体，所述卤素类气体包括F<sub>2</sub>、Cl<sub>2</sub>、Br<sub>2</sub>、I<sub>2</sub>和水解而生成卤化氢或次卤酸的化合物，所述造粒物相对于造粒物的总质量包含45～99.85质量％的碱金属盐、0.1～40质量％的碳质材料和大于0质量％且小于等于15质量％的碱土金属盐。 | ||
| 申请公布号 | CN101448561A | 申请公布日期 | 2009.06.03 |
| 申请号 | CN200780017971.5 | 申请日期 | 2007.04.16 |
| 申请人 | 旭硝子株式会社 | 发明人 | 樱井茂;有马寿一 |
| 分类号 | B01D53/68(2006.01)I;B01J20/04(2006.01)I;B01J20/20(2006.01)I | 主分类号 | B01D53/68(2006.01)I |
| 代理机构 | 上海专利商标事务所有限公司 | 代理人 | 范 征 |
| 主权项 | 1. 卤素类气体的除去方法，其特征在于，使包含选自卤素类气体的至少一种的被处理气体与造粒物在水的存在下接触来除去所述卤素类气体，所述卤素类气体包括F2、Cl2、Br2、I2和水解而生成卤化氢或次卤酸的化合物，所述造粒物相对于造粒物的总质量包含45～99.85质量％的碱金属盐、0.1～40质量％的碳质材料和大于0质量％且小于等于15质量％的碱土金属盐。 | ||
| 地址 | 日本东京 | ||