发明名称 DISPOSITIVO PARA EL TRATAMIENTO DE GAS.
摘要 Un dispositivo para tratar un medio sustancialmente gaseoso, que incluye un número de placas paralelas (14) que forman un preenfriador (1), un evaporador (2) y una parte de separación (3) y están conectadas unas a otras de tal forma que los espacios intermedios de placas están formados entre placas adyacentes, cuyos espacios intermedios de placas están conectados fluidamente por orificios de partes en las placas, de modo que forman un primer canal (5), que está dispuesto para transportar el medio gaseoso, y al menos un segundo canal (9, 9''), que está separado de, pero en contacto de transferencia de calor con, el primer canal (5) y que está dispuesto para transportar un medio de refrigeración para enfriar el medio gaseoso, en el que una parte (3) del primer canal (5) forma dicha parte de separación y está dispuesta para separar líquido del medio gaseoso, caracterizado porque dicha parte de separación (3) del primer canal (5) está formada por una pluralidad de espacios intermedios entre una parte de dichas placas (14), en los que al menos una de las placas (14), que delimita uno de dichos espacios intermedios, está dispuesta para que pase el medio gaseoso en ambos lados de la misma, y que las placas (14), al menos vistas en una sección que se extiende sustancialmente en paralelo con las placas, tienen dimensiones externas sustancialmente equivalentes y están conectadas unas a otras de tal modo que las placas (14) forman un paquete común de placas.
申请公布号 ES2320406(T3) 申请公布日期 2009.05.22
申请号 ES20000935780T 申请日期 2000.05.18
申请人 ALFA LAVAL AB 发明人 NILSSON, MAGNUS;BERTILSSON, KLAS
分类号 B01D5/00;F28D1/03;B01D53/22;B01D53/26;F04B39/16;F28D1/06;F28D9/00 主分类号 B01D5/00
代理机构 代理人
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