形成无光层用组成物及使用该组成物之脱模片，及使用该脱模片所得之合成皮革

主权项

1.一种适用于合成皮革之制造的形成无光层用组成物，其为含有作为必要成份之热硬化性树脂与消光剂之形成无光层用组成物，其特征为，消光剂是由含有一种或两种以上之有机及/或无机的多孔性微粒子所成；前述多孔性微粒子之平均粒径在0.5~20μm之范围，比表面积在1~1000平方公尺/公克之范围。2.如申请专利范围第1项之组成物，其中，前述多孔性微粒子为经过表面处理，均匀分散于形成无光层用组成物中。3.如申请专利范围第2项之组成物，其中，前述表面处理，于前述热硬化性树脂属水溶性时，为无机表面处理；前述热硬化性树脂属非水溶性时，为有机表面处理。4.如申请专利范围第1项之组成物，其中，前述多孔性微粒子之含量，相对形成无光层用组成物，以重量基准计算时，在5~50重量%之范围。5.如申请专利范围第1项之组成物，其中，前述多孔性微粒子系选自二氧化矽、碳酸钙、滑石，或含此等一种以上之混合物。6.如申请专利范围第1项之组成物，其中，更含有脱模剂。7.一种制造合成皮革用脱模片，其特征为，以申请专利范围第1~6项中任一项之形成无光层用组成物涂布而成之无光层，与支撑无光层的基材所成之制造合成皮革用之脱模片；其于前述无光层表面形成有微细之凹凸部份，此凹凸部份之算术平均粗糙度(Ra)在0.5~15μm之范围。8.一种制造合成皮革用脱模片，其特征为，以申请专利范围第1~6项中任一项之形成无光层用组成物涂布而成之表面具有微细凹凸部份之无光层，与支撑无光层的基材所成之制造合成皮革用之脱模片；前述无光层系由脱模性树脂层所成，在前述凹凸部份的凹部之底，系设有残存之具脱模性透明树脂者，前述脱模性树脂层，为将透明树脂液涂布于无光层上，经加热乾燥形成透明树脂层后，以于前述无光层之凹凸部份的凹部之底残存前述透明树脂之方式，将透明树脂层由脱模片剥离之方式所形成者。9.如申请专利范围第8项之脱模片，其中，前述凹凸部份之算术平均粗糙度(Ra)在0.5~15μm之范围，凹凸部份之凸部的凸部与与凸部之平均间隔(Sm)在0.5~10μm之范围、前述凹凸之平均倾斜角(θa)为45°≦θa＜90°。10.如申请专利范围第8项之脱模片，其中，前述脱模性树脂层系以如申请专利范围第1~6项之形成无光层用组成物经涂布所形成。11.如申请专利范围第7或8项之脱模片，其中，于前述无光层与前述基材之间，设置有平滑化层。12.如申请专利范围第11项之脱模片，其中，前述平滑化层系由申请专利范围第1项之形成无光层用组成物除去前述多孔性微粒子后之组成物所成。13.如申请专利范围第11项之脱模片，其中之平滑化层更含有平坦剂。14.一种制造合成皮革用脱模片，其为，以申请专利范围第6项之形成无光层用组成物经涂布步骤而成之无光层，与支撑无光层之基材所成之制造合成皮革用脱模片；其特征为，前述无光层系由2层以上之多层所形成之的脱模性树脂层所成；且在前述多层构成之无光层中，至少除与前述基材面相接之层以外的前述脱模性树脂层之各层，含有以聚矽氧改质树脂或含聚矽氧之树脂组成物所成之脱模剂，而且愈靠近无光层表面处，其脱模剂之含有量愈多。15.如申请专利范围第14项之脱模片，其中，多层构成之无光层中，至少除与前述基材面相接之层以外的各层，更含有平坦剂。16.如申请专利范围第7、8、或14项之脱模片，其中，前述基材之表面电阻(Ω)在1.0×1012以下。17.如申请专利范围第7、8、或14项之脱模片，其中，前述基材系由含有机高分子导电剂及/或无机导电剂所成，或者，在前述基材的任何一面，涂布有机高分子导电剂及/或无机导电剂而成者；该导电剂之含量，相对于基材在0.05~3.00公克/平方公尺之范围。18.一种合成皮革，其特征为，使用申请专利范围第7、8、或14项之脱模片制造而成。19.如申请专利范围第18项之合成皮革，其中，合成皮革表皮之最外层为透明树脂层。20.如申请专利范围第19项之合成皮革，其中，透明树脂层系具有脱模性。21.如申请专利范围第18项之合成皮革，其为实质上不进行压纹加上及/或起毛加工而制得者。22.一种合成皮革，其为使用申请专利范围第8项或14项之脱模片制造而得之合成皮革，其特征为，算术表面粗糙度(Ra)在0.5~15μm之范围，85°光泽度为0.5~10%之范围。图式简单说明：(图1)为本发明第一形态之合成皮革制造用脱模片的模式剖面图。(图2)为本发明第二形态之合成皮革制造用脱模片的模式剖面图。(图3)为使用本发明第三形态之合成皮革制造用脱模片，以制造合成皮革之步骤说明的要部模式剖面图。(图4)为本发明第三形态之合成皮革制造用脱模片之一例的模式剖面图。(图5)为本发明第三形态之合成皮革制造用脱模片之另一例的模式剖面图。(图6)为由实施例1所得合成皮革制造用脱模片之表面的电子显微镜照相图。(图7)为由实施例1所得PVC合成皮革-1之表面的电子显微镜照相图。