发明名称 |
半导体装置及其制造方法、与其所使用的图罩 |
摘要 |
本发明是提供一种半导体装置及其制造方法、与其所使用的图罩。上述一种半导体装置,其在一基底上具有为一隔离结构所隔离的主动区,其中在上述主动区内,上述半导体装置包含:一栅极于上述基底上,其延伸横越上述主动区;一源极区与一漏极区,置于上述栅极二侧的基底上;以及一栅极介电层,置于上述基底与上述栅极之间,其包含相对较厚的一高压介电质区、与厚度相对较薄的一低压介电质区,其中上述高压介电质区是占据着上述漏极、上述隔离结构、与上述栅极所交界的一第一交界区及上述源极、上述隔离结构、与上述栅极所交界的一第二交界区。本发明可有效改善因场氧化层所造成的低击穿电压的问题,并能够减少制程步骤与成本。 |
申请公布号 |
CN100490177C |
申请公布日期 |
2009.05.20 |
申请号 |
CN200610140510.4 |
申请日期 |
2006.10.13 |
申请人 |
台湾积体电路制造股份有限公司 |
发明人 |
林怡君;吴国铭;柳瑞兴 |
分类号 |
H01L29/78(2006.01)I;H01L29/423(2006.01)I;H01L27/04(2006.01)I;H01L21/336(2006.01)I;H01L21/28(2006.01)I;H01L21/311(2006.01)I;H01L21/822(2006.01)I;G03F1/14(2006.01)I |
主分类号 |
H01L29/78(2006.01)I |
代理机构 |
北京林达刘知识产权代理事务所 |
代理人 |
刘新宇 |
主权项 |
1、一种半导体装置,其特征在于,该半导体装置在一基底上具有为一隔离结构所隔离的主动区,其中在该主动区内,该半导体装置包含:一栅极于该基底上,其延伸横越该主动区;一源极区与一漏极区,置于该栅极二侧的基底上;以及一栅极介电层,置于该基底与该栅极之间,其包含一高压介电质区、与一低压介电质区,其中,高压介电质区的厚度比低压介电质区的厚度厚;该高压介电质区是占据着该漏极区、该隔离结构、与该栅极所交界的一第一交界区及该源极区、该隔离结构与该栅极所交界的一第二交界区。 |
地址 |
中国台湾新竹科学工业园区新竹市力行六路八号 |