发明名称 制作金属屏蔽的方法
摘要 本发明提供一种制作金属屏蔽的方法,首先提供一基板,接着在基板表面上依序形成一松脱层、一电铸晶种层以及一图形化的光阻层,其中该光阻层系用来限定出该金属屏蔽的图形,并暴露出部分电铸晶种层。然后进行一电铸工序,以在暴露出的该电铸晶种层上形成该金属屏蔽,最后进行一脱模工序,以使该金属屏蔽脱离该基板。
申请公布号 CN100490619C 申请公布日期 2009.05.20
申请号 CN200410005469.0 申请日期 2004.02.19
申请人 钰德科技股份有限公司 发明人 陈怡礽;周天佑;赖志辉;陈怡发;张世慧
分类号 H05K9/00(2006.01)I;B32B15/04(2006.01)I 主分类号 H05K9/00(2006.01)I
代理机构 北京市柳沈律师事务所 代理人 李宗明;杨 梧
主权项 1. 一种制作一金属屏蔽的方法,该方法包括:提供一基板;在该基板表面上形成一松脱层;在该松脱层上形成一电铸晶种层;在该电铸晶种层上形成一图形化的光阻层,且该光阻层用来限定出该金属屏蔽的图形,并暴露出部分该电铸晶种层;进行一电铸工序,以于暴露出的该电铸晶种层上形成该金属屏蔽;以及进行一脱模工序,以使该金属屏蔽脱离该基板。
地址 台湾省桃园县