光阻清洗剂

摘要

本发明揭露了一种光阻清洗剂，包含一缓蚀剂及一溶剂。该光阻清洗剂对于二氧化矽、铜及低k材料具有良好的防腐蚀性，因此，该光阻清洗剂在半导体晶片清洗之微电子领域中，具有发展之潜力。