| 发明名称 | 污染物质去除方法及装置,以及曝光方法及装置 | ||
| 摘要 | 本发明涉及一种污染物质去除方法及装置，以及曝光方法及装置。更具体地，涉及一种可迅速去除附着在光学系统内的规定光学部件上的污染物质的污染物质去除方法。为了去除附着在投影光学系统(PL)上端透镜(32A)表面的污染物质，穿过掩模载物台(22)以及掩模座(23)的开口，配置筒形保护件(53)，通过保护件(53)的内表面之后，使杆状件(58)端部的支持件(56)的底面与透镜(32A)的表面接触。在支持件(56)的底面上，预先安装用含有氢氟酸的清洗液浸泡过的抹布，通过经杆状件(58)使支持件(56)往返运动，用该抹布去除透镜(32A)表面的污染物质。 | ||
| 申请公布号 | CN101430423A | 申请公布日期 | 2009.05.13 |
| 申请号 | CN200810170975.3 | 申请日期 | 2003.11.25 |
| 申请人 | 株式会社尼康 | 发明人 | 渡边俊二;滨谷正人;北本达也 |
| 分类号 | G02B27/00(2006.01)I;G03F7/20(2006.01)I;B08B3/08(2006.01)I | 主分类号 | G02B27/00(2006.01)I |
| 代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人 | 杜日新 |
| 主权项 | 1、一种用于去除光学部件表面附着的污染物质的污染物质去除装置，所述光学部件位于使用来自照明光学系统的曝光光束照射第1物体，使用上述曝光光束经由上述第1物体及投影光学系统曝光第2物体的曝光装置中的上述照明光学系统或上述投影光学系统中，所述污染物质去除装置的特征在于包括：覆盖至上述光学部件表面为止的空间的至少一部分的筒状件；安装着用规定的清洗液浸泡过的可灵活装卸的清扫件的同时，为了使上述清扫件以与上述光学部件表面接触的状态移动而配置的可沿上述光学部件表面灵活移动的支持件；为了移动上述支持件，配置在上述筒状件内部，至少有一部分可灵活移动的棒状件。 | ||
| 地址 | 日本东京 | ||