发明名称 |
涂敷装置及涂敷方法 |
摘要 |
一种即使在基板往工作台上固定需要时间的情况下也能够抑制涂敷装置整体的作业周期长期化的涂敷装置及涂敷方法。这种涂敷装置的涂敷方法包括在工作台的表面载置基板的基板载置工序、在载置于工作台的表面的基板上形成初始膜的初始膜形成工序和从涂敷单元喷出涂敷液且在基板上形成涂敷膜的涂敷膜形成工序,基板载置工序具有在工作台的表面吸附基板的吸附工序,该吸附工序包括初始吸附工序和主要吸附工序,初始吸附工序是吸附包括涂敷开始位置的基板的初始膜形成区域,主要吸附工序是吸附除了初始膜形成区域以外的基板的涂敷膜形成区域,在结束初始吸附工序后、结束主要吸附工序前,开始初始膜形成工序。 |
申请公布号 |
CN101428264A |
申请公布日期 |
2009.05.13 |
申请号 |
CN200810174564.1 |
申请日期 |
2008.11.10 |
申请人 |
东丽工程株式会社 |
发明人 |
森俊裕;釜谷学 |
分类号 |
B05C5/02(2006.01)I;B05C13/02(2006.01)I;B05D1/26(2006.01)I;B05D1/02(2006.01)I |
主分类号 |
B05C5/02(2006.01)I |
代理机构 |
中科专利商标代理有限责任公司 |
代理人 |
李贵亮 |
主权项 |
1. 一种涂敷装置,具备:载置基板的工作台;和涂敷单元,其在相对于所述工作台的表面上载置的基板相对移动的同时喷出涂敷液,从而在基板上形成涂敷膜,所述涂敷装置的特征在于,所述工作台设有吸附保持基板的基板吸附装置,所述基板吸附装置具有初始吸附部和主要吸附部,所述初始吸附部对形成涂敷开始时的初始膜的基板的初始膜形成区域进行吸附,所述主要吸附部对除了该初始膜形成区域以外的涂敷膜形成区域进行吸附。 |
地址 |
日本国滋贺县大津市 |