| 发明名称 | 低折射率纳米材料减反射膜 | ||
| 摘要 | 本发明涉及一种低折射率纳米材料减反射膜，将低折射率纳米材料引入减反射膜系设计中，达到了良好效果；低折射率纳米材料减反射膜的设计结果具有工艺方便、实现应用前景广泛等优点，为空间硅太阳电池减反射膜的制备提供了制备参数，可望应用于太阳能产业领域和通信、建筑环保节能、IT产业、汽车工业、军事、航空航天技术等领域。 | ||
| 申请公布号 | CN101431110A | 申请公布日期 | 2009.05.13 |
| 申请号 | CN200810200774.3 | 申请日期 | 2008.10.06 |
| 申请人 | 上海电力学院 | 发明人 | 刘永生;杨文华 |
| 分类号 | H01L31/0232(2006.01)I;H01L31/052(2006.01)I | 主分类号 | H01L31/0232(2006.01)I |
| 代理机构 | 上海申汇专利代理有限公司 | 代理人 | 吴宝根 |
| 主权项 | 1、一种低折射率纳米材料减反射膜，包括减反射膜，其特征在于，所述减反射膜中至少有一层采用折射率在1.1～1.4之间，加权平均反射率在1.17％～5％之间的纳米材料。 | ||
| 地址 | 200090上海市杨浦区平凉路2103号 | ||